檢索結果：共6筆資料 檢索策略： "Lithography".ekeyword (精準) and cadvisor.raw="鄭正元"
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本研究應用浸潤式微影概念於先前實驗室研發設計的顯微鏡式DMD(Digital Micromirror Device)無光罩微影系統(Maskless Photolithography System)…
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本論文的研究方向是將無光罩微影技術結合積層製造之光成型加工技術，選用下照式成型系統，設計出能製作大面積微結構的曝光機。相較以往的顯微鏡微影系統，本系統單次曝光面積大，能製作出的微結構數量更多，配合高…
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本論文主要方向為積層製造(Additive Layer Manufacturing)系統結合無光罩微影(Maskless lithography)系統，並嘗試進行大面積影像拼接處理。 積層製造顧名…
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光學加工已經是目前科技中相當重要的一環，其中光微影製程為最重要的積體電路或微機電元件生產技術，由於元件開發往「輕、薄、短、小、低成本」的趨勢進行製程的開發；在微影製程中，傳統的方式已經無法再將尺寸縮…
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本論文主要是開發以動態光罩微影系統應用於3D列印 (3 Dimension Printing，3DP)技術，可製作出大面積立體微結構。 在本實驗中針對大面積立體微結構之製作其中包含了硬體、軟體及微結…
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目前在半導體與PCB影像轉移製程上，都朝向直接成像的曝光系統上進行開發突破，以節省製作光罩所需要耗費的高成本與製作時間長的缺點，故本實驗室一直都積極的研發DMD動態無光罩系統。 由於DMD…